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塑料真空鍍膜設(shè)備促進(jìn)真空鍍膜產(chǎn)品的普遍使用
發(fā)表時(shí)間: 2019-05-22 0:24:01瀏覽: 532
[文]塑料真空鍍膜設(shè)備的發(fā)展非??臁kS著生產(chǎn)率的提高,生產(chǎn)成本大大降低,為真空鍍膜產(chǎn)品的廣泛應(yīng)用鋪平了道路。以卷繞式真空鍍膜機(jī)為例,顯影時(shí)可鍍的薄膜基材為0mm,現(xiàn)已達(dá)到2253mm。基材輥的最大輥直徑為1000mm,最大卷繞速度為750m / min。具有自動(dòng)上下料的半連續(xù)卷繞真空鍍膜機(jī)占總循環(huán)時(shí)間的75%,輔助操作時(shí)間僅占25%。從大氣到大氣的更高效的卷對(duì)卷真空鍍膜機(jī)于1977年銷(xiāo)售。隨著測(cè)量技術(shù),控制技術(shù)和電子計(jì)算機(jī)應(yīng)用的進(jìn)步,卷對(duì)卷真空鍍膜機(jī)正朝著這個(gè)方向發(fā)展高自動(dòng)化和高可靠性??梢酝ㄟ^(guò)滾涂真空涂布機(jī)沉積的涂層的厚度范圍為0.01至0.2μm,m,可以在該范圍內(nèi)選擇,并且一些涂層也可以涂覆多層膜以滿(mǎn)足各種需要。該日本專(zhuān)利提出了一種輥式氣相沉積裝置,其沉積兩種不同的涂層材料。該裝置的真空室(6)分為上室(7),左下室(8)和右下室(9)。在蒸發(fā)過(guò)程中,由兩個(gè)蒸發(fā)源(19,23)蒸發(fā)的涂層材料(21,25)分別沉積在塑料薄膜(11)上,輝光放電發(fā)生器安裝在塑料薄膜不在的一側(cè)。氣相沉積(,16)。發(fā)生器產(chǎn)生的輝光放電氣體可防止塑料薄膜起皺。使用該裝置,可以在非常薄的塑料薄膜上涂覆無(wú)皺的多層薄膜,用于帶和薄膜太陽(yáng)能電池。該裝置的示意圖如圖1所示。圖1改進(jìn)的繞線(xiàn)型氣相沉積裝置近年來(lái),高速低溫濺射方法得到迅速發(fā)展,并且高熔點(diǎn)金屬的沉積如鉻,鈦,鎢,鉬等是可能的。已經(jīng)投入使用直徑為1400mm,高度為2,200mm的大型鐘罩式濺射涂布機(jī)和長(zhǎng)度為mm,寬度為7.6mm的大型串聯(lián)濺射涂布機(jī)。最近,日本專(zhuān)利提出了一種輥式濺射鍍膜機(jī),它可以鍍兩種非定向涂層材料,并在第一濺射區(qū)和第二濺射區(qū)之間安裝一個(gè)溫度控制裝置(),以加強(qiáng)基板的冷卻。當(dāng)涂層較厚并且沉積速度較快時(shí),基板不會(huì)卷曲和變形。該裝置的示意圖如圖1所示。真空室(1)設(shè)有濺射靶(4a,4b)和陽(yáng)極(14a,14b),兩個(gè)靶分別連接到DC電源(5a)。 ,5b)濺射塑料薄膜(8)。輥(11a,11b,11c)具有各自的冷卻溫度。
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